极紫外辐射(EUV)或高能紫外辐射是波长在124nm到10nm之间的电磁辐射,对应光子能量为10eV到124eV。自然界中,日冕会产生EUV。人工EUV可由等离子源和同步辐射源得到。主要用途包括光电子谱,对日EUV成像望远镜,光微影技术。 EUV是最易被空气吸收的谱段,因此其传输环境需高度真空。
极紫外辐射(EUV)或高能紫外辐射是波长在124nm到10nm之间的电磁辐射,对应光子能量为10eV到124eV。自然界中,日冕会产生EUV。人工EUV可由等离子源和同步辐射源得到。主要用途包括光电子谱,对日EUV成像望远镜,光微影技术。 EUV是最易被空气吸收的谱段,因此其传输环境需高度真空。收起
虽然近期台积电高管表示,台积电接下来的A16/A14制程都不会采用ASML售价高达4亿美元的High NA EUV光刻机(具有0.5数值孔径),但是英特尔则已经决定在其下一代的Intel 14A制程上选择采用High NA EUV光刻机进行量产。与此同时,未解决为了的1nm以下制程的制造问题,ASML正在积极的研发具有0.75NA的Hyper NA EUV光刻机,这也代表着其将面临更加大的技术挑战,要知道ASML花了约20年的时间才成功推动标准型EUV光刻机的规模商用。
ASML发布2025年第一季度财务报表 净销售额77亿欧元,净利润24亿欧元
阿斯麦(ASML)发布2025年第一季度财务报表。2025年第一季度,ASML实现净销售额77亿欧元,毛利率为54%,净利润达24亿欧元。第一季度的新增订单金额为39亿欧元2,其中12亿欧元为EUV光刻机订单。ASML预计2025年第二季度净销售额在72亿至77亿欧元之间,毛利率介于50%至53%3;对2025年展望保持不变,预计全年净销售额在300亿至350亿欧元之间,毛利率介于51%至53%。 (
作为一家已经有超过60年历史的老牌半导体设备厂商,TOKYO ELECTRON(简称TEL)在全球半导体产业的市场地位毋庸置疑,援引2023年的全球市场占有率数据,TEL主打的十大支柱产品中,涂胶显影设备的市场占有率为90%(其中配合EUV的涂胶显影设备达到100%的市占率),干法刻蚀设备的占有率为22%,成膜设备为31%(其中原子层沉积设备为16%,化学气相沉积设备为40%,氧化扩散设备为40%)
如今,人工智能芯片的需求正以指数级速度疯涨,可高昂的成本和复杂的工艺,让这项技术沦为少数公司的 “专属”。不过,转机或许很快就会出现。为了给五花八门的AI应用 “撑腰”,对先进制程芯片的渴求一路狂飙,这给整个行业的供应能力带来了巨大压力。不管是支撑大型语言模型的超大规模数据中心,还是智能手机、物联网设备、自主系统里的边缘人工智能,前沿半导体在各个应用场景下的需求都在迅速增加。但芯片制造严重依赖极紫外光刻(EUV)技术,该技术却成为扩大生产规模的关键阻碍。
不同波长的光源各自对应不同的技术节点和制造需求。从早期的 g线、i线到目前主流的 KrF、ArF 再到最尖端的 EUV,每一次升级都展现了更高分辨率和更先进的工艺水平。随着对器件尺寸不断逼近物理极限,EUV及其后续升级版本将持续发展。
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